专题研究数字资料 · 第438页

[硅对称TVS器件结构与特性分析]邓曲平

[采用AlSrTiO3SiO2Si结构的NTCRC复合元件的研究]吴群

[快速热氮化二氧化硅膜电特性测试与界面氮反应模型的研究]王运祥

[硅衬底的SrTiO3淀积膜的湿敏特性研究]尤文俊

[快速热氮化SiOxNy膜电学性质的测试研究]何汉翔

[注入硼离子的横向固相外延生长研究及质量分析]吕选芳

[退火方式条件对硅中氧化应力及电特性影响的研究]锺刚

[快速热氮化SiOxNy的深能级瞬态谱研究]徐美根

[硅氮氧化膜的界面特性的研究]严东军

[横向固相外延生长及其影响因素的研究]罗南林

[快速热氮化SiO2膜电学特性测试研究]杨劲

[线性宽温区硅扩展电阻温度传感器的进一步研究]马志坚

[高子束溅射淀积aSi膜的固相外延生长的研究]王德荣

[硅中离子注入应力及应变补偿扩散的研究]蒋连生

[硅压阻式压力传感器的研究]彭正福

[半导体压阻式压力传感器及其温度特性的研究]孟照玮

[超薄氮氧化硅MIS结构的直接隧穿导电机构和湿敏特性的研究]罗俊瑞

[硅扩展电阻温度传感器温敏特性的研究]黄建忠

[硅中过渡金属钽的深能级研究]黄万民

[固相外延形成CoSi2Si异质结的研究]肖金生

[热氮氧化硅电导与击穿特性的研究]詹广生

[用于VLSI的SiO2热氮化膜的研究]刘志宏

[电外延高铝值镓铝砷生长特性及生长界面稳定性的研究]张小南

[硅晶体中应力的定量分析及薄片中应力的探讨]覃甘明

[硅单晶中应力的研究]梁汉成

阶跃电流法诱导液相外延恒温生长Ga1-xAlxASSip-n结的研究电流诱导液相外延Ga-Al-As-Si系统中Si的两性掺杂行为的研究

[离子选择电极法测定铅在食品分析中的应用研究]锺洁

[葡萄糖快速成核的晶体构型与结晶水含量变化的机理研究]赵茜

[磁场处理对溶液蒸发传热作用的研究]郑必胜

[帕拉金糖结晶介稳区的研究]张喜梅