【两种进技术与微波等离子体炬原子发射光谱法】金群.pdf

致谢 致 谢 本文工作是在张寒琦、金钦汉两位老师的亲切关怀和精心指导下完成的。整个 实验从总体设想到具体问题无不凝聚着他们的心血。两位老师活跃的学术思想、严 谨的治学态度使本人收益匪浅。在此向两位老师致以衷心的感谢!师宇华同学对本文的形成作了不少实验工作,梁枫同学对本工作给予了许多热 心的帮助,杨文军同学为本工作仪器设备的建立给予了大力支持,在此向他们表示 诚挚的感谢!于爱民老师、程新民老师、安德强同学、袁湘林同学及其他老师和同学也对本 工作给予了不少关心和帮助。再次向他们一并表示感谢!
目录目录 第一部分 前言用于等离子体发射光谱法的激发光源 1原子发射光谱分析进样技术 1概述 1气动雾化进样法 1概述 1流动注射技术 1预分离富集技术 1概述 1FI一MPT一AES与在线预分离富集技术联用测定钢中的硼 1电热蒸发进样法 1MPT-AES中的干扰 1化学干扰 1光谱干扰 1物理干扰 1 淬灭效应 1 记忆效应 1 难熔元素干扰 1电离干扰 1 PN进样中EIE的干扰 1.
第一部分前育 第一部分前言 1用于等离子体发射光谱法的激发光源 一个理想的激发光源应该能够激发元素周期表中所有元素,激发能力高且稳 定,具有对各种化学光谱干扰的抵抗力,能接受气态、液态或固态样品而又保持良 好的精密度,同时价格低廉而又便于操作.等离子体发射光谱法是最有力的成分分析工具之。这类发射光谱法中,作为 激发源的等离子体主要有以下三种:电感耦合等离子体(ICP)、直流等离子体(DCP)和微波等离子体(MWP),后者义可分为微波诱导等离子体(MIP)和电 容耦合等离子体(CMP)。 