【电子回旋增强弧光等离子体活化反应离子镀方法的建立及立方氮化硼薄膜的制备】何志.pdf

论文题目:电子回旋增强弧光等离子体 活化反应离子镀方法的建立 及立方氮化硼薄膜的制备 作 者:何 志 专 业:凝聚态物理 研究方向:立方氮化硼薄膜 导 师:赵永年教授 吉林大学 超硬材料国家重点实验室
目录 第章紫论 1氮化硼薄膜发展近况 1氮化硼性能简介 1氮化硼薄膜的应用 第二章立方氮化硼薄膜制备的实验原理与装置 2实验原理 2实验装置及其原理说明 2实验过程概述 第三章立方氮化硼薄膜的制备 3实验装置在薄膜制备中的便用 3工艺过程的讨论 第四章实验中各种因素对制备立方有化硼薄膜的堂币 4射频放电对制各立方氮化硼薄膜的影响 4弧光放电对制各立方氮化硼海膜的影响 4弧光电流对成膜的影响 4弧光放电电压对成膜的影响 4进气量对制备氮化辅薄膜的影响 4本底真空对制各等膜的影响 4.
立方氮化酬的性质,包括硬度,领色,虚体形态,化 学稳定性、合成条件、触娃种类,氧化物付合成影画 等。60年代到70年代高压合成支万氮七酬前研充退量 发展,同时用晶种温度梯度法生长出行径识mm人 颗粒文方氮化硼单晶,由于大单品的出现,为立方氮 化硼单品性质的测量提供了有效的样品:更精确地测 量了它的机械性质,也为制备立方氮化硼功能器件提 供了可使用的材料。在功能器件方面最突出的工作是 制成了耐高温的立方氮化硼PN结以及能发淡兰色光的 发光二极管,使立方氮化硼的应用前景更加广阔.立方氮化硼薄膜的生长研究是立方氮化硼发展的 重要分支,1978年。 