[执流热阴极辉光放电PCVD法沉积金刚石膜的研究]姜志刚

【执流热阴极辉光放电PCVD法沉积金刚石膜的研究】姜志刚.pdf直流热阴极辉光放电PCVD法 沉积金刚石薄膜研究 姜志刚 导师:金曾孙教授 专业:凝聚态物理 1995年6月7日目录 提要 第一章.绪论.第一节．金刚石的性质及其应用.,第二节．气相合成金刚石膜的方法与生长机理 简介 第三节．论文的选题和主要研究内容 第二章．气体放电 第一节.低气压下气体放电特性,第二节．辉光放电第三节．较高气压下辉光放电特点.第三章．直流热阴极辉光放电PCVD法制备金刚石膜 第一节．装置简介第二节．互艺过程 第四章．实验结果的测量与分析 第一节．结晶与生长 第二节．低倍电镜分析 第三节．高倍电镜分析.第四节．成分分析 第五节．金刚石膜的生长速率,第五章．总结 致谢 参考文献.吉林大学硕士论文 表(1-1)天然金刚石的主要物理性质和半导体特性 维氏硬度 10000Kgf/mm2 电阻率(体积模量 440-590GPa 带隙宽度 5eV 热导率(300K)20W/cmK 遵光波段 0-12000A 密 度 3 g/cms 介电常数 5 折射率(590nm)2 电子迁移率 2200cm2/V 杨氏模量 1200GP8 空穴迁移率 1600cm2/V 介电强度 1017v/cm 饱和电子速度 2.
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