【执流热阴极辉光放电PCVD法沉积金刚石膜的研究】姜志刚.pdf

直流热阴极辉光放电PCVD法沉积金刚石薄膜研究姜志刚导师:金曾孙教授专业:凝聚态物理 1995年6月7日

目录提要第一章.绪论.第一节．金刚石的性质及其应用.,第二节．气相合成金刚石膜的方法与生长机理简介第三节．论文的选题和主要研究内容第二章．气体放电第一节.低气压下气体放电特性,第二节．辉光放电第三节．较高气压下辉光放电特点.第三章．直流热阴极辉光放电PCVD法制备金刚石膜第一节．装置简介第二节．互艺过程第四章．实验结果的测量与分析第一节．结晶与生长第二节．低倍电镜分析第三节．高倍电镜分析.第四节．成分分析第五节．金刚石膜的生长速率,第五章．总结致谢参考文献.

吉林大学硕士论文表(1-1)天然金刚石的主要物理性质和半导体特性维氏硬度 10000Kgf/mm2 电阻率(体积模量 440-590GPa 带隙宽度 5eV 热导率(300K)20W/cmK 遵光波段 0-12000A 密度 3 g/cms 介电常数 5 折射率(590nm)2 电子迁移率 2200cm2/V 杨氏模量 1200GP8 空穴迁移率 1600cm2/V 介电强度 1017v/cm 饱和电子速度 2.