[低压化学气相沉积金刚石薄膜的理论研究]董夏兰

【低压化学气相沉积金刚石薄膜的理论研究】董夏兰.pdfinef-kor-46 分类号:0643 密级:内部 低压化学气相沉积金刚石薄膜的理论研究 指导教师:孙家鐘教授 工作单位:吉林大学理论化学研究所 作老:董夏兰 专业名称:物理化学 论文答辩口期:-九九六年 月 山 授予学位口期:一九九六年 月 答辩委员会主席:论文评阅人Ⅱ 吉林大学博士学位论文 提要 3.在CVD金刚石薄膜典型条件下,气相氢原子与非自由基 气相碳氢化物中或者衬底表面上的不饱和碳不会发生加成反应(简 称为氢原子不加成机制)二、气相-表面相互作用 针对目前机理研究中遇到的表面生长前驱脱附速率值偏高的 问题,本文根据石墨和金刚石共生的实验事实、气相氢原子与石墨 相互作用的实验规律以及氢原子不加成机制,建议了非定域化表面 生长前驱(delocalizedsurfacegrowthprecusor)。吉林大学博士学位论文 上!录目录 第一章引 言 1 金刚石及其薄膜的合成和应用S 1 低压CVD金刚石薄膜技术对理论研究的需求.S 1 理论研究的历史、现状和存在的问题分析 本文的研究方向与主要贡献参考文献.第二章计算方法和原理S 2引 言 量子化学方法的应用2热力学量的统计力学计算S 2化学反应动力学分析参考文献第三章低压CVD金刚石薄膜的气相环境研究.S 3 引 言S 3.
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