【反应离子镀ITO薄膜的光学特性】李誉明.pdf

目 一。制各1TO游膜工艺抄术松述 81课超的提出 .1 P.V.D泛制备ITO激膜 81真空蒸锈法 .1.派射法 .1.° R.I.P.法 .1 C.V.D.法制答ITO激膜 S1 1T0藏膜的应用及发展 二、实验过程实验设备 S.银前准备 II .° 蒸发材料 S2 基片 8.°3真空设备清洁的保持 82实验过程 S2不同组份比下IT0激膜的制备 S2.不向氧分压下1T0的制备 8?对IT0海膜的退火处理 三。溯试 31测试的进行 83测讨红果 四反应离子ITO润膜的细构和组成 84.
符号与您语 T:traxsmission 透射率 R:reflection 反射率 a:aosorption coefficent 吸收系数 K:eatinctaon coefficent 消光系数 p:plasma wavelength 等离子波长 d:film thickness 膜厚 n:refractive indea 折射率 p:resestioety 电阻率 Rs:sheet resistance 面电阻 N:Carrier Concentration 载流子浓度 U:moblty 迁移率 uV.
一、制备ITO满膜工艺技术概述 81诛题的提出 随着科技术的发展,在光学领域中。利用薄膜制成的元器件 已经越来越多。可以肯定地说。没有海就没有现代光电仪器。在 科学迅猛发展的今天,薄膜元器件面临着严重的挑战,高功率核聚 激光、光通信、视频盘。集成光学、大颊模集成电路的发展对薄膜 提出了更高的要求、其耐久性、稳定性、抗激光破坏性必须有较大 提高.薄膜在空间拉术、能量转换及书能方面也显示出了优越性,但 随着这些技术水平的提高。对薄膜的光学特性要求愈米愈奇刻,这 些无疑将与致激肌抄术的进一步发展。同时,也显示了激膜的潜在 市场.IT0(indxm-t-0∞de)游脉是透明与电膜中的一种。 