【化学气相沉积金刚石薄膜界面研究】玄真武.pdf

戚立昌高级程师 Structure ofDiamond Films 业固体物理者玄真武指导教师金曾孙副教授中文化学气相沉积金刚石尊膜界召的研究专作题目

本文用EACND方法Si.Mo衬底上制备了金刚石膜,并且对其界面法构进行了Aaman光谱,AES深夜剖而,XRS.SEM 结果发现界石结构是:Si衬底全刚石膜的界召很刚显,有s汇喊份,并且有氧富集。在金刚石膜的背召(5Si衬底相结合的石)上均匀分布着许多困块,这些困块位于余刚石晶粒的生长中心。M衬底余刚石膜的界己处有一层明呈的MoC。由于Mo2C 层的存在,使余刚石膜内产生应力(主要是在应本文还就界石层与成核的关系作了分析,指出界么层的形成有利于会刚石成核.摘要 1 和TEM开究。

膜细粒拉多品余刚石膜同上同上同上,优越性在于样品不仅具有块状全刚石的性能,而且可制成大而积膜状材料。这就为令刚石衣电了,光学和机械等行业得到广泛衣用开拓了一了广阔的汽相会成会刚石尊膜具有巨大的潜在应用,有些已开发出产品(如入光窃口,扬事由和麦克风的振动板,车刀等工其涂层)表列出金刚表2.余刚石莲膜的应用性能要求可见光范围透明硬发高,抗冲去,致变离化学惰性,而磨惰性,红外透过弃离低辐将拍伤,可见光透明.无支撑膜.只有对射浅高的透过亲和你损伤,表石光 2 石膜的一生主要在用(他粒潜在在用)红外光学容口保护硬度离,抗冲击,化学前景。