【非晶硅薄膜的制备及其对提高非晶硅液晶光阀性能的影响】.pdf

1996-JX1612-509-4 摘要本论文全面介绍和回顾了液晶光阀的工作原理,非晶硅材料的基本性能以及当前非晶硅液晶光阀的研究与发展研究了非晶硅薄膜的沉积工艺条件对薄膜的光电、结构性能的影响关系,探讨了反应室中薄膜的沉积机理,确定出在现有的设备条件下,沉积出非晶硅液晶光阀光导层材料用的非晶硅薄膜的最佳沉积工艺参数为:衬底温度250.300℃.射频电流50mA.气体流量40ml/min.电极间距35mm; 研究了非晶硅光导层与CdTe阻光层之间的结构匹配关系,在上述工艺条件下,制备出了结构致密度高,与CdTe阻光层之间匹配良好的非晶硅光导层。

浙江大学硕士学位论文目录第一章引言第二章文献综述 2液晶光阀的基本结构及其工作原理 2液晶光阀的基本结构 2液晶光阀的主要工作模式及原理 2液晶光阀的光导层光电导原理及光导层在光阀中的作用 2非晶硅材料的基本性能非晶硅作为液晶光阀光导层的研制与发展:第三章非晶硅薄膜的制备及其机理探讨 3引言 3实验设备及原料 3实验设备 3原料 3测试方法 3沉积速率 3红外吸收光谱 3可见光吸收谱 3电导率的测试 3电容量的测量 3非晶硅薄膜的光电性能研究 3.