【微结构的荷能离子束刻蚀理论与技术研究】.pdf

1996-JX1612918 分类号TN304、92 密级 UDC 学位论文微结构的荷能离子束刻蚀理论与技术研究杨国光教授陈洪谬副教授指导教师姓名、职称浙江大学光科系指导教师单位

目录致谢.摘要 ABSTRACT 本论文的主要工作一、序言.1、概论、微结构的传统工艺制作方法 3、工艺方法的改进及最新发展4、离子束刻蚀法主要参考文献二、溅射速率的理论推导 1、问题的提出、溅射模型及推导 3、讨论.主要参考文献.35 三、提高离子源束流密度的研究 1、意义 2、影响束流密度的因素 3、理论分析及实验结果.37 主要参考文献四、新型刻蚀深度实时检测系统 1、方案设计与测试原理 2、光源的选择及照度匹配 3、动态测试中的光学系统 4、CCD输出频谱分析

致谢三年时光如箭如梭。每点滴之进步,无不渗透着导师杨国光教授以及陈洪谬副教授的种种关怀与一番心血.从论文选题到具体方案设计,导师杨国光教授给予了精心的指导.面对新的实验手段一一考夫曼离子源,陈洪谬副教授手把手地教予了我很多的东西。最令我难忘的是杨导师精辟的学术见解,在我发表的每一篇文章里,这些智慧的火花,总是起了重要的作用,在这三年里,杨教授和陈副教授教予了我很多的道理,同时,他们不仅在学术上给我以启迪,而且在生活上处处给我以关心和帮助本论文能够顺利完成,得力于导师的精心指导,得力于候西云老师、左丹薇老师的鼎力相助,得力于卓永模教授、程上彝副教授和吴沧海工程师的有益指导,