【光刻中对准精度实现】.pdf

目录论文摘要引言第一章 DSW光刻机自动对准系统 1电视摄像机扫描积分自动对准系统 1激光扫描式自动对准系统.1栅形标记暗场散射式自动对准系统 1光栅衍射式自动对准系统第二章土0μm(3α)暗场逐场自动对准系统设计 2整场对准与逐场对准暗场对准原理.82对准标记.2对准扫描.2对准信号的处理 2对准光学系统参数的选择第三章信号处理及控制电路设计研制 3PMT预放大电路 3快门控制电路 3扫描控制电路数据采样电路第四章对准软件设计 4.

论文摘要暗场自动对准是一种非常实用的对准方法,本课题在参照引进样机的基础上,设计并试制了一套暗场自动对准系统,包括控制电路、光学机械和计算机软件.在硬件设计方面,采用一套独特的光学机械结构来产生生和成像对准信号,并用光电倍增管接收来自光学系统的对准信号,经预放大电路放大后,送入采样电路采样,计算机接收来自采样电路的信号,经处理后确定对准位置,反馈回机械系统,通过扫描控制电路控制机械系统进行下一次扫描对准.在软件方面,编写了一套与硬件配套的对准软件。它应用独特的算法处理对准信号,确定对准位置.采用实时控制方式控制工作台的扫描和定位.自动对硅片进行规划.

浙江大学硕士学位论文言 1国外光刻技术及设备发展现状作为半导体尖端技术开发和生产实用化的前题,技术上首先要解决的是微细加工问题。以近几年来主要使用硅材料的DRAM为例,其集成度以三年四倍的速度快速增长,与之同步前进的微细加工技术目前已达到用0微米线宽制做4兆位DRAM的实用化阶段,今后还将以同样的速度向 16兆位、64兆位方向发展,实验室加工线宽已进入0～0微米领域,实用化的前景清晰可见。图一是DRAM的集成度及相应光刻设备的应用和发展预测.光刻设备器件(DRAM) 1:1 64KB 1:1DSW,g线 266KB DSW,g线加 1MB DSW,g线i线 0.