【低压反应离子镀技术的研究】.pdf
浙江大学硕士学位论文 目录 摘要 ABSTRACT 第一章前言 第二章低压反应离子镀反应机理 2、低压反应离子镀原理 2、等离子体的性质及测试.2、等离子体的电子温度和离子温度 2、等离子体浓度及其电离度 2、悬浮电位、正离子轰击基板的能量、等离子体中的粒子间的相互作用及 粒子状态 2、等离子体的诊断 2、等离子体与薄膜的相互作用.第三章等离子体反应离子镀实验研究3、低压反应离子镀设备结构 3低压反应离子镀技术的工作方式及工作状态33 3.
浙江大学硕士学位论文 摘要 光学薄膜低压反应离子镀(RLVIP)技术是近年来镀膜 技术领域中的最新进展,在原理上完全不同于以往的曾广泛研究 的离子辅助镀膜技术,而以其能制备出聚集密度更高,光机性能 更稳定,更加坚硬牢固,无柱状结构的薄膜受到国际薄膜界的高 度重视,并且等离子体大面积的作用范围及适宜的离子参数使R LVIP成为大规模生产高质量光学薄膜最有前途的一种新技术.建立适合国内条件的低压反应离子镀设备是研究的重点之一:根据具体条件,研制了适用于常规镀膜设备的低电压大电流等离 子体源,并把等离子体源安装在国产DMDE450镀膜机上,共同工作。
浙江大学硕士学位论文 -electrical films and nitride films have been deposited by RLVIP.Their chemical components and properties are measured and analysed.Experiment results show that RLVIP can improve packing density of films as wellas the adherence to the substrate andthestabilityof optical performance of the