【上海激光技术研究所学位论文光盘碲基合金膜的记录特性及其机理研究】.pdf

致 谢 衷心感谢导师王之江研究员在研究工作 中给予的热情指导,启发和培养.衷心感谢沈冠群付研究员,翁文泉付研 究员两位老师多方指与和关心,以及在研究工作 中给予的各那有盆的启发和帮助.陈垦同志曾对本文工作提击许多宝贵意 见和建议,以及在实验工作中提供方便和给予 的帮助在此表示感谢.感谢刘立明,夏凡两同志在实验中给予 的合作和帮助.对彭家驹,杨永刚两同志在镀膜方面的 情帮助和支持在此表亦感谢.感谢十一所扫描电镜室永兴,周砖之 两同志在电镜观察中的合作那帮助。
目录 弟一章绪论 1一1 引言 1—2国外光盘记录介质研究动态 第二章确基合全薄膜的光学常及其厚度测定 2-1引言/2 2—2基本理 2—3初始值和多值解的讨论 2—-4误差估计 2—5实验结果 2—6讨论 弟三章膜层记录特性测试 3—1引言 3—2静态反差特性曲线测试 3—3膜层老化測定 3—4膜层的建立时间和开孔时间测定 弟四章膜层热学特性计标 4—1引言 4—2基本公式 4—3计林结果 弟五章成孔机理分析 5—1引言
苏一章绪论 1一1引言 光盘技术是七十年代发展起来的一种高密度存储 技术。这项技术开始主委应用于消费做用的电视唱片,以后又广泛应用于各种档案存储,文件检索,以及作为计 机的外存设备。同磁性存储技术相比,其实出的优英是当密 度和长寿命。随着这项投术的不断发展,特别是光盘可撩除 技术日趋完善,将有可能使光盘在许多领域里取代磁性存 储的地位.光盘技术是一项逐存储技术,其基本理是使用一束经 过信息调制后的激光束,通过当倍物镜聚盘成直经小于一微米 的光斑,利用记录介质爆光后的各种物理化学反应,改变其光 学特性,这样就把信息逐记录下来。 