【磁控溅射技术在光学质膜中的应用研究】.pdf
致谢 在整个博士论文完成过程中,我始终得到我的导师太和教 授的熟情关心和悉心指导,在此我深表衷心感谢和真诚敬意。我 的论文从定课题到每一个实验细节,所有的实际工作都是在居晋 发授精心指导下完成的,他严谨的学风,渊博的学识,谦虚谨 慎,为人师表,都给我留下了深刻的印象,更使我受益非浅,在 此我表示深深的谢意.工作中还得到顾培夫副教授的有益指教,因此我也表示感谢.同时我还妥对浙江大学光仪系光学游膜教研室全体老师:何 孟权、刘兰芬、吴启宏、胡学群、陈宇明、唐瑞莹,和其他同学 吕中良、陈燕平、徐静江,刘旭、刘涌、唐九耀,在我的实际工 作中,他们给予我提供方便,热忱帮助和愉快合作表示感谢。
小结 第四章 直流反应磁控溅射淀积氧化物光学薄膜的研究 4 引言 4 反应溅射氧化物薄膜的成膜过程机理 4 氧化物薄膜形成过程的反应动力学 4 金属靶面氧化与溅射的平衡及其控制 4 氧化物形成的途径 4 TiO2Zn0、Ta2°5、Al2和SiO2薄膜的 直流反应磁控溅射研制 4:1 磁控溅射系统的改进 4 氧化物薄膜的反应溅射制备工艺 4 反应溅射镀膜过程的控制 4 氧化物反应溅射的沉积速率 4 反应溅射的氧化物薄膜的性能 4 光学性能 4 聚集密度 4:3 牢固度 4.
toopticalcoatings Summry Workersinthefieldofopticalthinfilmsare facing a big challenge.On the one hand, laser programs relating to gyros, fusion and weapons re- quiretheperformanceofopticalcoatingsinaspects as absorption, scatter,laser damage resistance substantiallybeyondthestateoftheart;ontha oth