【磁控反应离子刻蚀机的磁控反应室设计】.pdf
浙江大学研究生学位论文用纸 P.I Abstract Magaetron Reactive on Etehing(MRIE)uis αnew yderelopedintheearly eighties.otn therx isnoyrevial papertcalculate anddesign magneti Kielldistibution otheMRlEsytemn this faper,themethod suface charge density togetle withthoprinciple chage conservam resented tcaleuletethsm
浙江大学研究生学位论文用纸P． 目录 第一章 概述 .1 刘蚀工光简斤 磷控反应离子刻蚀(MRIE) 51-2刻蚀装置的发展马现状 h 1 论文工作简介 第二章 砌控反应室研路结构的什真设计 .2 引言 2 矩量法计耳娠路结构的地分布 2 矩量法简分积分方程的建主也号条仲的确足和和分方程的求能 2 计事模型及程序框图 2 边易处理的验论 A5 2 砌路结构的最优化没计 优化间题的提出 S2 最优设计法—阳尼最小.采法2.
浙江大学研究生学位论文用纸 P.前言 大规模集成电路和起大规模集成电路已成为现 代电子技术的重要基础。各种别迷工光和没备的进步 又是集成电路高迷发展不可缺少的重要固素。尤其是 从集成电路的发展历史来看,今后集成也路的进一 步发展将更多地依赖于工气装备的苇新 在国外,八十年代中期,集成电路的实用线宽型 一微走,线宽为亚微米的微细加工技术世实现下一代 某成电路的关键性工无,所以回外光进国象因此也推 出许多种相应的半导体工气没备.而在我国,当今的微徊加工装备(也括目前为过引世.的没备)都远不能满足1μm的亚微米的微细密形 加工的要求。