【氢等离子体原位清洁及减压硅烷外延】.pdf

月录摘要 ABSTRACT 1.猪言 I.弥述一.沉积前的预清洁.预清洁法 2.H-plasma pre-epitaxy cleaning 3.切底的清洁是实现低遇外延的关能,二.减压低温外延 Ⅲ.实验难备及设备一.实验的提击.二.实验步聚及设备.实验步马骤.a.实验材料及设备.三.本文所做的工作,.实马验结果及讨论分析一氨女离子体清洁硅树底表面氧化物结果及分析二.氢女离子体清洁辅助下的减无外延徒果及分析 v.结论 -64-致谢.

本保持不变为25 ,但电阻华均与性仍受其形响。

工绪言随着大规模、大檗成度电路及双极CM0 S, 级微波口件发展的要求,对砖竹延的抄性求城来城主。柳到自抄朵,仿火图形漂移及畸变,均可的盐厚,的孙观房,陵峭的界面杂分布川及大放棋2大容外炉的发居,月范要求低临的她“作为也即低温外观的一种手段的低(或减)无外观界如奴实用的.人做的减外她一般的2作无都是在102.10Tor 下进的,尽管左泌善图形畸变及均可性女方届有了大的,但冉于存在一(uC 而朽应地处外她先性能有所下降,同时如此低的工作无力,其生长放少及经济性方面都是有缺陷的。