[超声波雾化VCD法制备单晶硅太阳电池抗反射膜的研究]

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专题
超声波雾化VCD法制备单晶硅太阳电池抗反射膜的研究
类别
专题研究
页数
83页
大小
3.82MB

【超声波雾化VCD法制备单晶硅太阳电池抗反射膜的研究】.pdf浙江大学研究生学位论文用纸P 摘 要 我们采用一种新的薄膜技术一一超声波雾 化CV D技术来制备单晶硅太阳电池的Sn02、Ti02 抗反射膜,并仔细研究了各沉积王艺参数对膜光学 参数的影响.用超声波雾化CVD法制得的Sn02,Ti02抗反 射膜不仅具有高的可见光区透过率,而且它们的化 学稳定性很好,与玻璃和硅片等的着力也很强,应 用于单晶硅太阳电池,其抗反射性能要比目前在使 用的Sii好。浙江大学研究生学位论文用纸 P.Ⅲ 目录 第一章 绪 论 第二章 薄膜的增透原理 S2-1 减反射膜的原理 S2-2 减反射膜的选择 S2-3 几种减反射膜的性质 附录 第三章 超声雾化喷涂Sn02、Ti02抗反射膜的制备3-1 超声雾化喷涂原理 S3-2 超声雾化的大面积化 S3-3 Sn02抗反射膜的制备及互艺条件最佳化:S3-4 Sn02薄膜用于单晶硅太阳电池的增透性能 Ti02抗反射膜的制备及互艺条件最佳化:S3-6 Ti薄膜用于单晶硅太阳电池的增透性能 S3-7 Sn02、Ti02膜层牢固度和稳定性的检验.浙江大学研究生学位论文用纸P 电池,多晶硅电池、硅带电池.无是形硅电池、聚光电池 多结电池、光电化学电池艺多种新型太阳电池。而目前,单 晶硅太阳电池无论从成本或效率来讲,都已日趋实用 化.对于单晶硅太阳电池,其制造过程须经以下几道工 序:表函难备 扩散制结 除去肾绩 制作上下电极 硅片剃备 焊接封装 电池致率测试 制喊及射膜 腐蚀周边 [a 成组件 试 其中扩散制结.制作电极和溅反射膜三了主要工序决定 着太阳电池的转换效率、可靠性、使用寿命和制作成 本世,选今为止,人们对此已作了大量的研究人作。
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