【超声波雾化VCD法制备单晶硅太阳电池抗反射膜的研究】.pdf

浙江大学研究生学位论文用纸P 摘要我们采用一种新的薄膜技术一一超声波雾化CV D技术来制备单晶硅太阳电池的Sn02、Ti02 抗反射膜,并仔细研究了各沉积王艺参数对膜光学参数的影响.用超声波雾化CVD法制得的Sn02,Ti02抗反射膜不仅具有高的可见光区透过率,而且它们的化学稳定性很好,与玻璃和硅片等的着力也很强,应用于单晶硅太阳电池,其抗反射性能要比目前在使用的Sii好。

浙江大学研究生学位论文用纸 P.Ⅲ 目录第一章绪论第二章薄膜的增透原理 S2-1 减反射膜的原理 S2-2 减反射膜的选择 S2-3 几种减反射膜的性质附录第三章超声雾化喷涂Sn02、Ti02抗反射膜的制备3-1 超声雾化喷涂原理 S3-2 超声雾化的大面积化 S3-3 Sn02抗反射膜的制备及互艺条件最佳化:S3-4 Sn02薄膜用于单晶硅太阳电池的增透性能 Ti02抗反射膜的制备及互艺条件最佳化:S3-6 Ti薄膜用于单晶硅太阳电池的增透性能 S3-7 Sn02、Ti02膜层牢固度和稳定性的检验.

浙江大学研究生学位论文用纸P 电池,多晶硅电池、硅带电池.无是形硅电池、聚光电池多结电池、光电化学电池艺多种新型太阳电池。而目前,单晶硅太阳电池无论从成本或效率来讲,都已日趋实用化.对于单晶硅太阳电池,其制造过程须经以下几道工序:表函难备扩散制结除去肾绩制作上下电极硅片剃备焊接封装电池致率测试制喊及射膜腐蚀周边 [a 成组件试其中扩散制结.制作电极和溅反射膜三了主要工序决定着太阳电池的转换效率、可靠性、使用寿命和制作成本世,选今为止,人们对此已作了大量的研究人作。