【激光表面微区化学研究-红外助长SiO2薄膜的激光微区化学反应研究】.pdf
浙江大学研究生学位论文用纸P.i 要 激光表面微化学是一个新的研究领域,涉及许多过去未曾深入研究 过的物理化学现象。本工作着重研究红外助长的二氧化硅激光微区的化 学反应体系,从而为对一些重大理论课题(如微小区域反应的动力学过 程)的本质了解及其在半导体工业与微电子工业等领域的应用提供较为 本文自行设计、改装了一套用于光表面化学反应的反应器和高真 空装置,安装并调试了二氧化碳激光器及光学系统。在低的基底温度条 件(室温.300°左右)下,在某一配比的N2、02混合反应气体中,采用 10.
Pii 浙江大学研究生学位论文用纸 ABSTRACT LaserMicro-Chemistryisanewresearchfieldwhich involvesa lotof phenomena inphysical chemistry,and laser inducedoxidationisoneofthemosteffectiveandimportant In this paper,laserlocalizedchemicalprocessing for IR laser assisted SiOzthin filmgrowth is studied.
1 3 3 4 7P 录(LCVD/LO)薄膜 浙江大学研究生学位论文用纸 目 S2.激光化学气相淀积/氧化技术(LCVD)/LO的原理 S3.激光化学气相淀积/氧化(LCVD/LO)技术的装量 四.线性一抛物线一指数衰减的氧化规律 二氧化碳激光氧化二氧化硅薄膜研究 言 文献综述 S1.激光表面微化学 与光源选取 S4.激光化学气相淀积/氧化 S5.氧化反应动力学过程探究 一.Deal-Grove模型 二.Blanc模型 三.