【硅中氮氧共聚过程及相关的施主效应】.pdf
摘要 在全面总结历年来对硅中氧、碳、氮基本行为及氧相关施主特性研 究的基础上,本文探讨了含氮CZ硅中发现的又一种与氧有关的施主(氮 氧相关施主),肯定了它的存在,阐明了它的生成动力学、一般特征、热处理行为以及它与氮氧沉淀的关系.在500.1100℃进行了一系列等时和等温热处理,发现在500.800℃ 的低温区,氮氧的聚集与分解反应占主导,在这个温区氮氧相关施主的 形成引起了异常的导电性变化。用高精度的四探针电阻率测量、低温霍 尔效应和PTIR测试表征了这种施主的特性。用数值方法分析了氮氧相关 施主的生成动力学。
observedkineticbehaviorsoftheN-odonors,including the N-o donor generation,decay of N-N pairs,and the reversible nature of the N-o donors and N-N pairs.observationonnitrogen-containedCzsilicon annealedatatemperatureover8oo°cshowedthat temperature.
第六章高温下CZ硅中氮的行为 6-1CZ硅中的氮浓度在高温热处理时的变化 6-2讨论 第七章结论 致谢 参考文献