【半导体中的扩散】科学.pdf
0447343 半导体中的扩散 B.И.鲍尔塔克斯著 薛士签
iii.序 金属和合金中的扩散是多年来世界上許多物理实驗室和冶金 实驗室有成效地深入研究的较老的問题,在这方面已經积累的实 的和理的资料对于解决現代技术的許多問题具有重大意义,并且是对于固体理发展的珍贵贡献.但是至今对于半导体中扩 散过程的研究尚未予应有的注意.而物理学中这一重要领域的 飞速发展,一系列半导体器件的創制以及半导体材料在技术中的 应用,都要求在研究半导体的电学的、光电的、温差电的和其它的 性质同时,也全面地研究这些物质中的扩散和自扩散过程,这种 研究的价值不限于解决个别工艺問题,研究半导体中的扩散过 程同时亦具有重大的科学意义,这些研究对于加深我們关于杂质 在本专著中,我們
目录 6.杂质(第三粗元)对于金属和合金中扩散速度的影响 第一章半导体中的结构缺陷和杂质 3.温度对于热缺陷濃度的影响 5.晶体中缺陷的形成和化学键强度 8.杂质牛导体中电子按量子态的分布 10.緣晶体和半导体中的色中心 第二章固体中自扩散和杂质扩散过程动力学 1.关于固体中扩散过程动力学的基本概念 2.扩散和对反应速度理 3.隙式固溶体中的扩散 4. 