[日本半导体材料硅资料汇编]上海科学技术情报研究所

【日本半导体材料硅资料汇编】上海科学技术情报研究所.pdf本书主要介绍了目前日本有关硅材料工业及备。包括日本硅工业发展情况.拉制单晶的工艺及备.悬浮区熔的工艺及备.扩散工艺及备.物理测赋及其他等六部分。着重開逃了拉制单晶的工艺及設备,如日本气氛拉晶工艺:控制生长速度及气氛掺杂等具体方法,并群細介绍了一套高精废的温度自动控制系。悬浮区熔部分比较群細的介绍了电气控制系统,同时还在物理测赋部分介貂了舍获得较高价的寿命 湖试仪器。除化学提外本汇巍所涉及的内容较广泛。第一部分日本半导体硅工业的发展及有关情况 S1.日本华导体硅工业发层简史 S2.日本现在生产高硅的几种方法 53.日本生产硅的工厂情况及现有水平 S4.拉制单晶的一些辅助材料 第二部分拉制法制硅單晶的工艺及設备 第一章在氩气氛下拉制硅单晶 S1.概况.S2.操作工艺 S3.拉晶的操作过程 S4.在氩气气氛下拉制硅单晶的掺杂技术 附录I 图解半导体掺杂概念 第二章 硅单晶拉(C.Z.设备(单晶炉)S1.高频炉 S2.高灵敏度溫度自动控制采 S3.温废自动記录系統 S4.第一部分日本半导体硅工业的发展及有关情况 S1.日本半导体硅工业发展簡史 日本有关牛导体的工作是从1953年开始,当时东京通讯工业株式会社Song公司从比 利时进口氧化端然后自已还原成。最初对牛导体研究较多的是东北鲜台大学、电气通讯 研究所和东京电气试验所(该两所属通商产业省管理)。这些单位进行了大量的牛导体理论 研究工作和试验工作.1954年,东京通讯工业公司经理井深大第一个从美国输入专利和成套设备、技术,用于 制造晶体管,牛导体收音机。由于牛导体收普机在日本市場出现,轰动日本,因此Song 公司得了高额利润。
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