【油浸法】地质.pdf

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油浸法 r.B.鲍基著 北京地價学院岩石教研室 1956北京目錄 第一 为進一步明所必需的初般光学的基本概念 第二 晶体的光学平面 第三節 光率体在晶体中的方位 -15 第四節 偏光微鏡第五節 微镜的装和检查第六 以油浸法工作时所用的标本的制备第七 顯微镜下所見的油浸标本的光学现象第八節 油浚法原理油浸介质.第九節 具克出现的解郡斜照效应 第十 用油浸法测定折光率的实际工作 第十一節 微鏡下角的測定消光角,光带符号,光率体方 位的測定第十二 在聚光下晶体的研究 第十三節 油浸法的現在發展途径第十四節浚油折光率的验参考文献第一節为進一步明所必需的 初級光学的基本概念 根据光的电磁学理,在光的每一点上,电場和磁場的强度都 有着周期性的变化。这些强度可以用向量表示出來。在均介震中,南个向量在每一瞬間都是互相垂直的,同时亦和光方向垂直,但是 在垂直于光傅播方向的平面内不断地改变自已的位置。在偏光时,它們亦在此平面内保持一定位置.因为用肉眼就能感觉到电向量强度的变化,所以在下面可以抛 磁向量,而想象这是偏振光綫,如簡上粗綫所示.光裁被看作是电磁波,所以为了使得这个振动的概念清楚,可以 作一个补助圆,一个点子沿圆作等速运动。点子的运动投影在 垂直于光裁進行方向的直上。