【电化学沉积过程中物理化学环境对界面生长的影响】张克勤.pdf

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电化学沉积过程中物理化学环境对界面 生长的影响 张克勤 指导教师:王牧教授 闵乃本教授 南京大学固体微结构物理国家重点实验室 Dissertation for Ph.D.TheInfluence of Physico-chemical Environment in Electrodeposition on the Interfacial Growth By Zhang Ke-qin Director:Prof.WangMu Prof.目录 有京大学州上论义 2铁沉积物牛长过程中的形态转变 树状形态的浓度场特点2生长过程中pll值的变化.电化学沉积过程中的电流变化2界面的生长速率分析与讨论2本章小结(37) 参考文献.第三章铁沉积物形态变化对氢离子浓度的依赖 3引言 实验装置沉积物形态的观测 x光衍射对沉积物的结构、成分分析 穆斯堡尔谱研究 分析与讨论 本章小结.摘要 南京大学则1:论义 摘要 准维电化学沉积(ElecterochemicalDeposition)中产:了人最的形态,例如 致密分义(DBM)、扩散限制聚集(DLA)等形态。这些形态的形成机制和演化付 于深入认识远离平衡态条件下的界面生长过程和物理本质具行重要意义,引起了 人们的浓厚兴趣。本论文旨在研究FeSO和ZnSO溶液电化学沉积的界面附近的物 理、化学不境对生长形态和机制的影响。主要包括以下:个内容:实验上首次直接验证电致对流对电化学沉积过程中形态选择的平要 作用,揭示了电致对流的激发与溶液中的氢离子浓度的关系。