【受阻胺光稳定剂的改进及其对聚丙烯耐辐射性能的影响汪辉亮】.pdf
摘要 摘要 在本论文围绕受阻胺光稳定剂及其对聚丙烯的稳定作用研究了以下四个方面的问 题:一、受阻胺类光稳定剂的合成及其对聚丙烯耐辐射性能的影响 合成了四甲基受阻胺光稳定剂(HALS)4-(甲基丙烯酸)-2-五甲基哌啶醇酯(TMPM)和未见报导的新的五甲基HALS4-(甲基丙烯酸)-1,2,2,6-五甲基哌啶醇酯(PMPM) 单体,及TMPM、PMPM分别和一系列单体的共聚物。还合成了一系列不同单体配比和 不同分子量的PDS.所合成的聚合物型HALS的热稳定性、耐溶剂抽提性能等均比小分子HALS好。
摘要 IⅡI 效应.四、麦阻酸光稳定剂与其它类型光稳定荆的井用效果 PDS、PPS和Tinuvin328并用均表现出反协同效应,PDS和Tinuvin328并用的效 果最差,而PMPM和Tinuvin328并用时既没有反协同效应存在也没有协同效应存在 PDS、PPS、PMPM分别和Tinuvin328并用的效果好坏的顺序和PDS、PPS、PMPM 本身稳定效果的顺序一致,即PMPM>PPS>PDS PDS或Tinuvin328单独使用比两者并用更能有效地防正氢过氧化物的生成或分解氢 过氧化物.
2.Radiation-induced grafting of 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl-methacrylate(TMPM)ontoPP Theeffect of various graftingconditions on thepercent graftingwere studied.Itwas shown that percent graftinginbenzene,CClandpetroleum etherwerehigher than that in other solvents.