【真空电弧膜的理论模型和实验研究】程仲元.pdf
Experimental Research and Theoretical Model ofVacuumArcDeposition by Cheng Zhongyuan Supervisedby Professor Zou Jiyan,Xu Shizhang,and Cheng Lichun A dissertation Submittedtothefacultyof Huazhong University of Science and Technology for thedegreeofPh.DinElectricalEngineering Oct.
华中理工大学博土学位论文 还为减轻MP污染提供新的努力方向.结合第四章等离子体诊断的结果,本文第七章还定量地分析了等离子体参数 对膜层性能的影响。发现与宏观工艺参数相比,等离子体微观参数对膜层性能有更 直接和确定的影响。这一发现为实际工业生产中控制和优化工艺参数,提高膜层质 量提供新的思路.本课题的研究为进一步应用VAD技术制备精细薄膜打下了基础。应用本文对MP 的分析和控制措施解决MP污染的问题,配以更完善的等离子体诊断可以沉积非晶硅 和其他半导体薄膜,从而把本课题进一步融人我国高技术薄膜材料制备的研究中,主题词:真空电弧、离子镀、等离子体诊断、静电探针、薄膜、宏观颗粒
华中理工大学博士学位论文 shapes.Some new thoughts are discussed to deduceMPcontamination)To relate thc plasma parameters with film mechanical properties quantitatively.In Chapter 7,direct and obvious relations have bcen cleared out between the above two.