[复合靶溅射制备宽温磁光盘及其特性研究]胡作启

【复合靶溅射制备宽温磁光盘及其特性研究】胡作启.pdf摘要 用复合靶能方使地溅射制备出不同成分的合金薄膜,复合靶的这一优点 使它适合于制备宽温磁光盘和研究新薄膜材料。但是,用复合靶难以溅射制备 出大面积的均匀薄膜,因此,研究用复合靶溅射制备均匀薄膜的方法对研制实 用的高密度宽温磁光盘具有极其重要的意义。基于此,本文对磁控溅射制备均 匀薄膜的方法、宽温磁光盘的制备及其特性和新型磁光记录薄膜的制备及其 记录特性三方面的内容从理论和实验上进行了系统的、深入的研究.理论上,根据SPF一430H射频磁控溅射系统的靶结构,建立了磁控磁场 模型,用磁场控制方程,首次推导了该系统的磁控磁场三维分布的解析函数,并编写了通用性较强的程序,计算了磁场的数值分布。Theamorphous TbFeComagneto-optical filmsareresearchedextensively,andthemethodsofrealizingitswide-temperaturepropertiesareacquired.Experimentally,asystem,whichusedtostudythemagneto-optical recordingfilmsagingproperties,observeandmeasurethemagneticdomain,isdesigned.(4磁光记录、读出和擦除原理以及磁畴测量方法 5非晶TbFeCo磁光记录薄膜的溅射制备工艺及磁和磁光特性 5复合靶制备均匀非晶TbFeC。磁光记录薄膜的方法 5薄膜界面对磁光记录薄膜的磁和磁光特性的影响 5.
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