【激光淀积高Tc超导薄膜的研究】安承武.pdf

要使高Tc超导性能够广泛地应用于现代微电子器件,就必须制取性能优良的高TC超导薄膜。因此,开发有效制备超导薄膜的技术,是实现超导电子学应用的第一步。激光剥离淀积高T超导薄膜,是制备高 TC超导薄膜的最有效的方法之一,其特点是不但能够容易获得与靶材组分几乎一致的薄膜,而且操作简便,易于调节,薄膜生长速率快,成品率高。因此,有必要对这一技术进行开发研究.本文的互作主要是研究如何利用激光剥离技术淀积优质高Tc超导薄膜,探索合适的激光淀积高Tc超导薄膜的制备过程。主要研究内容为以下几个方面:1.

Laser Deposition of High Tc Superconducting Thin Films Abstract For achieving the applications ofhigh Tc superconductivity in the field ofnovelmicroelectronics,thefirststepis toprepare high quality su-position is one of the most effective techniques for producing high Tc su-perconducting thin film

前言高温超导性在现代微电子技术中得以应用的首要步骤就是制备优质的高Tc超导薄膜。因此,几乎是在高Tc氧化物超导材料被发现的同时,人们就开始制备高TC超导薄膜的研究。用于制备高TC超导薄膜的技术方法很多,如射频溅射法,磁控溅射法,蒸镀法,多层蒸镀法,等离子体喷镀法,分子束外延法,化学气相淀积法,以及激光淀积法,并且都取得了相当大的进展。特别在1987年,Be11Core研究小组报道,利用准分子激光淀积Y一B2-Cu-0超导薄膜具有明显的优越性后,大大促进了激光淀积超导薄膜的研究进展。