【多相光刻伺服盘及系统研究】华诚.pdf
本文对磁贫存储单元技术的发展作了回顾,并从中得到了某些 启迪。目前WincheS+e技术和Whi+ney(薄膜磁头与薄膜个须)技术 在磁盘存储技术中具有极其重要的地住,他们对存储容量的提高起 了很大的推动作用。但是随着光存储器的实现,碰盘存储器容量就 显得相形见拙了。磁盆存储嚣容量不高的主要愿因在于道密度难以 提高。因此本文针对碰贯存储器面临的国难提出了用光刻何服盘方 法实现磁盘存储器的高道密度,籍以大悔度提高其容量,并保持快 速存取的优点。由于到用了电子束爆光、离子来刻蚀技术,所提方 法的校术踏力可使碰道宽度小至了微米,甚至更窄。
flying characteristics ofthe magnetichead slidersonthe uncontinuousmediumsurface havealsobeendeveloped theoretically,which would provide valuable options for experinentalresearches.
第四章光刻同服盘同服编码 4 多相光刻同服编码 4 伺服编码解调 4 位置信号解调 4 逻辑控制信号解调 4 光刻词服盘词服编码刻写装置 §4 小结 第五章 磁阻磁头 §5 读出特性分析 5 误出模型 5 碰阻磁头与感应式碰头特性对c比 5 磷阻薄膜 5 薄膜片制作 51 形状刻蚀及电极制备 5、3 磁阻放应测量/11 §5 小结.2 第六章 非连绽表面的磁头浮动特性 6 磁头浮动的理论模型 6、1 静态模型的建主 1/5 6 动态模型分析 6 方程求解理论 6.