【磁光记录双层耦合膜及温度特性研究】卢正启.pdf

华中理工大学学位论文纸摘要磁光记录技术采用光致热磁效应进行信息写人和擦除,磁性多层膜结构磁光盘正是利用各层磁光介质的温度特性及耦合作用,同时结合提高密度方法和直接重写方式实现高密度快速存贮.因此研究磁光薄膜温度特性及磁光多层耦合膜,对研制高密度快速存贮宽温化磁光盘具有极其重要的意义。不文系统、深人地对磁光记录薄膜、磁光双层耦合膜及温度特性进行了理论和实验研究.理论上,运用平均场理论研究了TbFeCo和ISmTbFeCo非晶薄膜饱和磁化强度、交换积分常数、垂直各向异性常数和磁光克尔角随温度的变化规律及薄膜成分对其影响,详细讨论了薄膜成分对补偿点温度和居里点温度的影响。

华中理工大学学位论文纸 firstlayer are derived.Aclassification of the possible Kerr hystersis loopsis systematicallyderivedByanalyzingthe Kerrrotationanglesof thedifferent magnetization states,we can explain the various kinds of the normal and anomalousKerrhystersisloops Experimentally,theamorphous DyFeCo,SmDy

华中理工大学学位论文纸 4小结(79-79) 5章RE-TM双层耦合垂直磁化膜研究(80-94) 5RE-TM双层耦合膜的磁化过程(80-87) 5RE-TM双层耦合膜的磁光克尔回线分析(87-89) 5RE-TM双层耦合膜的实验研究(89-92) 5RE-TM双层耦合膜的磁光温度特性研究(92-93)5小结(94-94)结论.致谢攻读博上学位期间发表和报告的论文参考文献附录鉴定证书1军用加固光盘技术研究鉴定证书2磁光盘宽温磁光特性测试仪鉴定证