【材料科学与工程】材料科学与工程编辑部材料科学与工程编辑部杭州.pdf
梅志、顾明元、吴人洁 姜小波、叶志镇 邱克辉、曹爱红、V.Gabis 康乃正、毛志远 戴问民、尹红、叶闽军 郁可、郑中山、任中京 黄小丽、林实、萧纪美、楚建新 张士国、江鉴.刘变英编译 刘变英编译 吴波编译 总第五十五期 程宇航、吴一平、陈建国、乔学亮、孙培祯 傅永庆、朱晓东、徐可为、何家文 朱时珍、赵振波、刘庆国 王克温、乔文明、凌立成、刘朗、周承泽、郑斌 中科学与工程 MATERIALSCIENCEANDENGINEERING 录 吴广明、吴永刚、倪星元、周、张彗
的精细结构被掩盖。近年来,随着高分辨电子显微术(HREM)及分析电子显微术(如EELS、AP-FIM等)的发展,使得在原子尺度研究界面结构、界面化学及界面缺陷成为可能,再配合以 其它微区形貌、结构和成分分析的手段,并加以综合应用,相互补充,使得对界面结构有了更深 二、界面层相组成及成分变化 确定界面上有无新相形成是界面表征的主要内容之一。这种析出物可能是增强体与基体 通过扩散反应而在界面处形成的新相,也可能是基体组元与相界处杂质元素反应在界面处优 一般情况下常用明场像或暗场像对界面附近区域形貌进行观察,通过选区衍射和X射线 能谱进行微区结构和成分分析。
裂并变得模糊,目前作者正通过对LACBED花样的动力学模拟来对界面处的应力场作进一步 S.J.Rozeveld及其合作者13则通过在电镜内对薄膜试样原位冷却来引入残余应变,用会 聚束电子衍射方法测量了A1/SiCw界面附近的残余应变,并与有限元计算结果进行对照,证 实了此方法的可行性。这种方法的突出优点是它所具有的数十纳米的空间分辨率,这对于界面 附近急剧变化的残余应力来说是非常有意义的。但遗憾的是,它还不是一种无损检测的方法,实验时制备电镜薄膜试样,必然会破坏材料的原始应力状态,因此目前尚只能用来研究由于温 五、界面结构的高分辨观察及其原子模拟 高分辨电子显微术用于界面研究可以提供原子尺度 
