【激光化学气相沉积光纤耦合微透镜的研究】蒋忠钢.pdf

摘要激光化学气相沉积技术(LaserChemicalVaporDeposition)是指在用激光诱导下源气体在衬底上发生化学反应制备薄膜的方法。由于激光具有极好的单色性,方向性,因而易于准直聚焦实现微区内的选择性沉积。沉积薄膜的厚度分布及薄膜的性质与激光的特性,沉积的源气体,沉积时间以及沉积的各种条件有关“.最近,随着光纤通信技术,光计算机,光信息处理以及集成光路等技术的发展,微透镜已经成为其发展的一种重要光学元件。它可作为半导体激光器,光纤,集成光路三者之间的耦合连接器”,也可用于光纤的输出光的准直,在激光唱机,及近距离成象方面也有极广阔的应用。

目录第一章绪论-一-第一节微透镜及应用一一第二节现今微透镜的制造技术及发展-一一第三节激光化学气相沉积法(LCVD)制备微透镜的特点 2 第二章激光化学气相沉积技术一一一第一节化学气相沉积制备薄膜技术的原理一-一第二节化学气相沉积技术的分类-一一第三节激光化学气相沉积技术－－一 -7 第四节激光化学气相沉积技术的一般装置一-第五节激光化学气相沉积技术在制备微透镜上的应用－－－一一9 第三章激光化学气相沉积(LCVD)制作微透镜-10 第一节利用激光化学气相沉积技术制作微透镜的总体装置－一10 第二节LCVD技术制备微透镜中源气体的选择第三节氮化硅(SiN)

第一章微透镜第一节微透镜及其应用微透镜是指其透镜的直径只有几百微米甚至更小的透镜。微透镜的焦距一般是微米级,因而它是集成光学与微光学中的重要光学元件。集成光学与微光学是近年来随着光通信技术,光盘存储,光计算机,光信息处理变换与传输技术的发展而开拓的新学科,以使光电子技术向微型化,集成化方向发展。目前,半导体激光器已应用到很多的领域,但比起其它的激光器来说,它的发散角大(一般横向8°,纵向30°),若需要与光纤或其它器件进行耦合,必须采用准直聚焦系统。微透镜正是一个理想的无源耦合器件。特别对1×20半导体激光器阵列,其单元行间距仅为8微米,发光面不过0.