【激光诱导石衬底温度分布的研究】王东.pdf

摘要在薄膜制作技求中,淀积时常被用作在衬底上大面生成薄膜。但是,在有些应用中,例如制作微透镜,则要求在一个选择性的区域内淀积。通常,我们使用掩膜技不获得迭择性淀积的薄膜,但这种方法需要很多步骤。由干激光束能被聚焦在一个其波长级尺寸的小的选择性区域内,所以,激光化学气相淀积能够被用于淀积局部选择性的薄膜。激光化学气相淀积的薄膜尺寸与反应机制有关,特别是由于激光加热衬底引起源气体的热解反应而使淀积反应发生在激光束范围内.微透镜是微光学中的关键元件,十分重要,已尝试了各种制作方法。最近,激光化学气相淀积被用作制作微透镜。

目录第-章绪论茅二章理论基础 2激光化学气相淀积 32薄膜制备微细加工技术 52化学气相淀积制膜技术 52激光化学气相淀积 2激光化学气相淀积微透镜 §2.了激光诱导石英衬底温度分布的研究 5 2 概述 §2解热传导方程 §2 最高温度 92温度分布 2计算机模拟石英衬底温度分布茅三章实验装置 3概既述 3.温度测量装置第四章实验结果和分析 §4实验结果 .4.

第一章绪论在薄膜工艺中,淀积时常被用作在衬底上大面积淀积成膜。但在某些应用中,却要求在某一局部选择的区域内淀积。通常,局部淀积或图案制作是通过掩膜处理获得。但是,掩膜处理要经过多道工序,所以在许多应用中,人们希望直接实现选择性淀积。因此,最近几年,发展了许多处理局部选择性淀积的技术。在这些技术中,建立在光子束、离子束和电子束等基碰上的東技术特别引人注目。: 现在,激光化学气相淀积(L(VD)作为一种高度选择性淀积的技术已经出现。