【反应离子刻蚀的机理及工艺的研究】李松.pdf

摘要在三年的研究生学习含毕业设计)过程中,共完成了下列六项工作.反应离子刻蚀中RF等离子放电的维持机理是国际上十分关心的间题,本论文对此作了较为深八的研究.量有很大影响。根据高频放电等效电网终横。本文研究了一种新方法,测算了放电的等效电阻.3)究了玻璃干法刻蚀的工艺技术.改装了原有的反应离子刻蚀设备.开发了一个实用的计算机软件一一科技英文文摘资料编辑检索系统.参加了彩虹膜的研制工作,查阅了大量文献资料,进行了多次试验,获得成功.微细加工是随集成电路需娶日益发展的一门综合高科技。由各种精细加工工艺技术组成,它非常讲究技术之间的协调,配合。

(二)平板高频放电中的电压分布规律因为离子轰击是维持机理,以及刻蚀效果好坏的重要因素,所以,研究了电极间电压分布的规律。借助于放电的电网终模型,有助于分析。在低压时,放电接近于容性是Koening的实验结论.从另一角度看,在高频放电时,离子跟不上外加电信号的变化。离子独立于鞘层电压的变化,说明纯电阻的放电等效电路莫能反映离子活动。实际上,高频等离子放电模型是介了上送两者之同的。水文利用波形分析法,分别考察了纯电容性和统电阻性等效电路中级简宅压的分配,从理论推导中得出高压电极销层电压与地电极鞘层电庄之比与外加峰峰值电压与电极负偏压之比有关,为了提高有效的离子轰击能量应加大两电

目录摘要一、概述二、实验用等离子系统简介- 三高频等离子体维持机理的研究 31交流放电的一般描述一 -11 32等离子体特征一 -15 33等离子体电位一 3.4电荷流动一 35等离子体电位在时间上跟随外加信号的能力一17 36等离子体维持机理一 -18 37连续方程- 38高频等离子体放电维持机理的简单模型－一一22 39实验方法一 3实验结果及分析四,利用反应等离子体刻蚀的电学模型研究极间电压分配一五、反应等离子体刻蚀玻璃的工艺研究六。计算机应用一一科技文摘的编辑检索系统一.