【直流等离子体射流CVD法金刚石膜的沉积及其在刀具上的应用】严志军.pdf
分类号 学校代码:10561 IDC 密级 学 号:S96015 华南理工大学学位论文 直流等离子体射流CVD法 金刚石膜的沉积及其在刀具上的应用 严志军 指导教师:机电工程系 李元元教授刘正义教授 广州有色金属研究院 周克崧教授 申请学位级别:硕士 专业名称:材料加工工程 论文提交日期:1999年3月 论文答辩日期:1999年3月 学位授予单位和日期:华南理工大学 答辩委员会主席:论文评阅人:一九九九年三月
Abstract In this M.A.Dissertation,DC ArcPlasmaJet CVDMethod is used to depositDiamondFilm,anditsapplicationonYGseriesofCementedCarbide CuttingToolshasbeeninvestigated.Theresearchworkinclude The specifictechnology of depositing thin diamondfilm onYGseries cementedcarbidecuttingtoolsandtheeffectsof
3金刚石膜涂层刀具车削KK铝青铜合金实验结果及分析 3金刚石膜涂层刀具切削高Si铝合金的实验现象及分析讨论 44 3金刚石厚膜试验结果及检测分析 3金刚石厚膜的成核生长规律 3金刚石厚膜的表面形貌分析 3金刚石厚膜的激光拉曼光谱分析 3金刚石活性钎焊料制备结果及分析 54 四结论 59 参考文献致谢 66 附录1Ag-Cu-Ti合金相图 67 附录2车削KK耐磨铝青铜蜗轮件的实验数据.