[硬质合金上CVD金刚石涂层的研究及其界面表征]匡同春

【硬质合金上CVD金刚石涂层的研究及其界面表徵】匡同春.pdfSouth China University of Technology DissertationforPh.D.Study on Chemical VaporDepositedDiamond Coatings onto CementedCarbideInsertsandCharacterizationoftheirInterfaces kuang Tongchun Supervisors:Prof.Liu Zhengyi Prof.ZhouKesong Department ofMechanical andElectricEngineering SouthChinaUniversityo华南理工大学学位论文 ⅡI 本文采用XRD、SEM、TEM、FT-Raman光谱等多种现代检测手段重点 对CVD金刚石膜及其与硬质合金刀片基体的界面结合状态、界面物相组成、横 截面组织层次等方面进行了综合表征,结果表明:YG8硬质合金刀片上沉积的 金刚石膜内点阵畸变小、嵌镶块尺寸为纳米数量级、残余应力为GPa数量级压 应力、位错密度达10cm数量级以上,并含有一定数量的空隙、微孔、非金刚 石组份(石墨或非晶碳)。沉积工艺条件对上述各参量影响较大,在其它工艺参数 固定的情况下,低的甲烷浓度沉积有利于得到结晶完整、轮廊分明、缺陷(位错、李晶、微孔、空隙、杂质等)数量少和粘附性能好的刻面型CVD金华南理工大学学位论文 IV property Comprehensive characterizations of diamondfilms and the interfacial integrity, interfacialphasesandcross-sectionalmicrostructurelayersbetweendiamondfilmsand cementedcarbideinsertshavebeencarriedoutbymeansofXRD,SEM,TEMandFT- Ramanspectroscopy.
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