【直流等离子射流CVD法硬质合金上沉积金刚石膜研究】张宁.pdf

目第一部分前言1金刚石膜发展及应用概况1金刚石涂层刀具性能及研究意义 1 金刚石膜制备技术及沉积过程+ee1 本课题已取得的初步成果及本论文的研究目的、研究内容第二部分试验研究方法2试验装置2 试验用材料及预处理方法2 测试手段及仪器2 Raman谱分析2 X射线衍射分析显微镜观察:2 压痕法2 表面轮廊仪分析第三部分试验结果及分析3.

直流等离子射流CVD法硬质合金上沉积金刚石膜研究 ResearchintoDiamondFilmsDepositedonCementedCarbide SubstratesUsingD.C.PlasmaJetCVD [摘要」本文采用直流等离子射流化学气相沉积在YG8硬质合金基体上沉积一定厚度的金刚石膜制备金刚石涂层刀具。并借助SEM,XRD,Raman,表面轮廊仪,压痕法等一系列测试分析手段评价金刚石膜质量和膜基结合性能。结果表明:在较低的甲烷浓度1 ～2 ,相对高的沉积气压8～13KPa下可获得晶粒细小,纯度较高的金刚石膜。

第一部分前言 1金刚石膜发展及应用概况碳是以三种同素异构的形式存在,非晶态的碳黑,六方片层结构的石墨和立方系的金刚石。其中金刚石作为一种稀世宝石,早已具有巨大的魅力。随着固体物理学的发展,对金刚石开展了广泛的研究.金刚石晶体是由碳原子组成的,其价电子的轨道为sp?杂化轨道,每个碳原子形成4个sp?杂化轨道,再与其它原子成键。每个碳原子与最近邻的4个原子形成四面体结构。如图1一1.[111 Ci1o) coii:(a)(b) 图1一1金刚石晶体点阵结构(a)晶胞(b)主要晶向一个碳原子在四面体中心,其它四个分别处于四面体的四个顶角,原子间以共价键相结合,形成金刚石