【固相反应形成NiSi2Si异质结】裘金伟.pdf

目录 2前言 3实验 4测试5结累和分析6镍和硅反应机理 7小结.

前言硅化物作为VLS1的互联材料,原热版系致和硅不匹配外真会性能几乎都役理想!]因此对理化物进行了广泛的研究 2]有些硅化物是Ca2结构,且晶格常致和硅很近另有一些虽是六角晶休绪构但菜一些方面和硅鼎格匹配较好以上两类硅化物具有类金属的良好导电性且可以在单晶硅上外延生长在这些硅化物上又可外延生长硅,从而形成双异质结:外延结构如桌上述双异质外延结构中硅化物层足够薄(小于100埃),则有可能制造高频金局蒸区晶体(品BT)Sze等人用硅/金(多晶)/(单晶)结构做成医BT！3] 由于金散射严室,电流增益很小。

在金属转化为硅化物前后,其光学反射系数变化很大,利用这一点可做成永久光学存贮器,Tu制成Pd2Si永.久光学存购 [6]器护气氛中熟退火,除冲和扫描激光退火,电子束退火等儿种方法.防BE外延NiSi2质量最好,但成本高Bean等人用uBE外 20]Poate等用Nd:YAG脉冲激光器引导硅化物形成,但效果不佳[22]。Shibala用等幅扫描激光束,形成单相硅化物 23]:Tung用脉冲激光先形成NiSi,然后热退火形成外延N1S12,其界面很平,且外廷质盘甚佳 24],但形成 NiSi时出现液相Grirlaldi选用合适的脉冲激光幅射能量使小于200A镍和硅反应,外延