[固相反应形成NiSi2Si异质结]裘金伟

【固相反应形成NiSi2Si异质结】裘金伟.pdf目录 2前言 3实 验 4测试5结累和分析6镍和硅反应机理 7小结.前 言 硅化物作为VLS1的互联材料,原热版系致和硅不匹配 外真会性能几乎都役理想!]因此对理化物进行了广泛的研 究 2]有些硅化物是Ca2结构,且晶格常致和硅很近 另有一些虽是六角晶休绪构但菜一些方面和硅鼎格匹配较好以 上两类硅化物具有类金属的良好导电性且可以在单晶硅上外延生 长在这些硅化物上又可外延生长硅,从而形成双异质结:外延结 构如桌上述双异质外延结构中硅化物层足够薄(小于100埃),则有可能制造高频金局蒸区晶体(品BT)Sze等人用硅/金(多晶)/(单晶)结构做成医BT！3] 由于金散射严室,电流增益很小。在金属转化为硅化物前后,其光学反射系数变化很大,利用这 一点可做成永久光学存贮器,Tu制成Pd2Si永.久光学存购 [6]器 护气氛中熟退火,除冲和扫描激光退火,电子束退火等儿种方法.防BE外延NiSi2质量最好,但成本高Bean等人用uBE外 20]Poate等用Nd:YAG脉冲激光器引导硅化物形成,但效果不佳[22]。Shibala用等幅扫描激光束,形成单相硅 化物 23]:Tung用脉冲激光先形成NiSi,然后热退火形成 外延N1S12,其界面很平,且外廷质盘甚佳 24],但形成 NiSi时出现液相Grirlaldi选用合适的脉冲激光幅射 能量使小于200A镍和硅反应,外延
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