【真空沉积技术】李学丹万英超姜祥祺杜元成编.pdf

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真空沉积技术 李学丹万英超 姜祥祺杜元成编者 1993年2月于杭州 前言 我们为大学本科生开设“薄膜技术”课程多年。本书是在该课 程教材的基础上经修编而成的,并定名为“真空沉积技术”。主要 内容有:真空与低温等离子体物理基础、成膜技术、薄膜的检测与 分析和等离子体刻蚀。本书可作为物理电子技术、半导体与光电子 技术、电子器件与材料以及功能材料等专业的本科生和研究生的 本书的编写大纲经集体讨论,由姜祥祺执笔。李学丹编写第 1、2、3和9章.万英超编写第4和5章.姜祥祺编写第8章.杜元 本书的出版是我们多年来教学与科研实践的结果,并参照许 由于我们水平有限,不妥和错误之处,恳请读者指正.教材或参考书。也可供有关工程技术人员阅读、参考。(63沉积速率与凝结系数沉积膜的膜厚分布 3电阻加热源 3高频惑应加热源 3电子来加热源 3激光束加热源 电弧加热蒸发源 3.