【功能材料】萧庆赞功能材料编辑部重庆.pdf

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心功能材制 目 次 综 述(双月刊)金属锂二次电池的研究进展.吴宇平,万春荣,姜长印,等低介电常数含氟氧化硅薄膜的研究第31卷第5期(总第182期)压电复合材料的现状与展望 甘国友,严继康,孙加林,等2000年10月20日 碳/碳复合材料的生物相容性及生物应用 侯向辉,陈 强,喻春红,等磁性生物高分子微球的制备方法和研究进展 魏衍超,杨连生研究与开发 HDDR各向异性NdFeB磁粉的粒度效应 刘旭波,肖耀福,张正义,等机械合金化制备高性能NdFeo.sMo.COCOLi+Li+e-.CO+LiCO(Ⅱ)实。对于不同的离子,其最佳用量不一样,如Mg,最佳加人 形成有机羧酸盐(I)和酸盐(Ⅱ),而它们的分子轨道可发生 量为0 ,而Zn+则为0 .相互作用及电荷发生离城化(图3),因此有利于锂离子的快速 5碘化物 传递(图4)所以,形成的表面膜不利于枝晶及“死”锂的产 生],这层表面膜的状态不同于与电解质发生反应形成的 电解液中碘化物如SnI、AIL的加人可导致循环性能有明 LiCO等,没有CO时,只是表层有LiCO等,内层没有。文章编号:1001-973105-0452-04 低介电常数含氟氧化硅薄膜的研究 丁士进,张卫,王鹏飞,张剑云,刘志杰,王季陶(复且大学电子工程系CVD研究室,上海200433)摘要:综述了近十年来低介电常数含氟氧化硅薄膜的研究 含硅、氧、氟的前驱体,如SiF/O、SiH/O/SiF、SiH/O/状况,详细介绍了该薄膜在化学键结构、热性质、湿稳定性以及 CF、Si(NCO)/SiF/O、SiF/H/O、FSi(OCH)/HO、介电常数四个方面的特性,同时也简单介绍了薄膜的台阶覆盖 SiH/NO/CF、Si(OCH)/O/CF等 度、填隙能力和漏电流特性,指出含氟氧化硅薄膜是
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