[题名=金刚石薄膜的制备及场发射特性的研究]金文成

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专题
题名=金刚石薄膜的制备及场发射特性的研究
类别
专题研究

【题名=金刚石薄膜的制备及场发射特性的研究】金文成.pdf吉林大学硕士学位论文 金刚石薄膜的制备及场发射特性的研究 金文成 导师:金曾孙教授 顾长志教授 专业:凝聚态物理 一九九九年六月吉林大学硕士学位论文 目 第一章绪论 第一节金刚石的性质及应用 第二节 CVD金刚石的发展历史 第三节 场发射的应用一FED及其研究进展 第四节 论文的选题和研究内容 第二章场发射理论及金刚石薄膜在场发射的应用-第一节 FN理论 第二节 金刚石薄膜的场发射理论 第三章金刚石膜的制备第一节 MW-PCVD系统第二节 碳源气体浓度对金刚石膜生长的影响 第三节 衬底温度对结晶生长的影响 第四章金刚石膜场发射特性的研究 第一节 场发射测试设备 第二节 不同表面形貌的金刚石膜的场发射特性 第三节 不同甲烷浓度合成的金刚石膜的场发射特性 第四节 金刚石膜厚度对场发射的影吉林大学硕士学位论文 景,引起了人们对这种材料的极大重视。但是由于天然 金刚石的储量少,价格十分昂贵,而在50年代发展起来 的高温高压法合成的金刚石为粉末状,生长大颗粒金刚石 的成本很高,因此使金刚石的实际应用受到很大的限制.近十年来,金刚石的低压合成方法取得了迅速的发展,采 用化学气相沉积方法,可以制备出各种形状和尺寸的金刚 石膜,从而使金刚石的应用领域得到扩展,为金刚石在力 学、电学、光学、热学、和声学等领域的应用奠定了基础.可是,由于CVD金刚石一般是多晶材料I6],在整体 性质上还达不到天然金刚石和高压金刚石的水平。
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