[紫外写入Bragg光纤光栅的制作及其温度补偿封装技术研究]韦欣

【紫外写入Bragg光纤光栅的制作及其温度补偿封装技术研究】韦欣.pdf密级:内部 紫外写入Bragg光纤光栅的制作 及其温度补偿封装技术研究 韦欣 专业名称:半导体物理与半导体器件物理 一九九八年六月 指导教师:张玉书教授 单位名称:吉林大学电子工程系 分类号:TN2528录 吉林大学硕士毕业论文 目 S3紫外写人布拉格光纤光栅的制作实验 4Bragg光纤光栅的反射谱和透射谱.光纤光栅的光学特性随曝光时间的变化关系 4光纤光栅的长度对器件光学特性的影响 S4Bragg光纤光栅在WDM系统中的应用实验.S1紫外写人光纤光栅及其应用 S1紫外写人光纤光栅制作技术的发展紫外写人光纤光栅制作技术简介 第二章Bragg光纤光栅耦合模理论及其光谱特征 2.Fiber-Amglifer GainEqualizer Long-Distance Transmissian Link Acd/Drop Gratng ASE Filter Central Office 参数 BW=0.3nm,R=1.10 BW=0.1nm,R=1.100 BW=2.25nm,R=100 BW=0nm,R>90 BW=0.1nm,Isolation>30dB BW=0.1nm,Isolation>50dB BW=0.10nm,D=1600ps/nm BW=30nm,loss=0.10dB BW=0.
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