本项资料题名为《磁光薄膜及磁性薄膜的X射线反常散射及结构-性能的研究》,属于专题研究资料。本页提供资料基本信息、部分扫描页预览及数字文件获取信息。本数字文件共16页,文件大小约0.50MB。
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- 专题
- 磁光薄膜及磁性薄膜的X射线反常散射及结构-性能的研究
- 类别
- 专题研究
- 页数
- 16页
- 大小
- 0.50MB
【磁光薄膜及磁性薄膜的X射线反常散射及结构-性能的研究】焦炬明.pdf题目:磁光薄膜及磷性薄膜的×射线 反常散射及结构性能的研究 北金属材料 专 作者 焦炬明 指导教师乙爆刚数授目 标 题 页 码 三 又射纲行射关验 四 有停发的活袜 王 对结果的讨论 致谢 参改文献 摘要 英文摘要第一部分:Ga一FEe非晶薄膜结构 性能的研究及易化相的特征.研究Gd-Fe非晶薄膜的意义 稀土元素一过渡簇合金(RE.TM)转晶薄膜是在一九 七 二年研制出来的,因为 RE.TM 非如诱膜有许多优良的磁性 能,是目前很有前途的新型磁性材料,所以有许多抖学 2件者致力于这方面的研究。RE一TM非晶薄膜可以在很究 的范围内形成非晶态,可以人为调节成份。Gu一后非晶薄 膜是比较典型的一种,具有单轴磁各向异性性,有较 大的碰光效应,人们利用这种性能研制磁光存贮 代赞容是的磁盘存贮。本文余统地研究了Ga-F非 晶薄膜的制备工艺、结构、磁性能以及晶化相的特征 二.
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