【用热解CVD方法制备的金刚石薄膜的生长特性】皇甫萍邹广田.pdf

题目:(用热解CVD方法制备的金刚石薄膜的生长特性专业固体物理邹广田金曾孙指导教师

第！页摘本文采用热解化学气相沉积方法,甲烧和氢气作为气体料,在Si、Ge.Cu、M。、石英片、石墨等多种基片上割备出了金刚石薄,孟对其进行了扫描电镜观察及挂漫光谱则量,此较洋细地研完了金刚石薄膜的生长持性,总结出金刚石簿膜的一些生长规律。结果表明,不同的生长来伴将会生长出不同晶形的金刚心薄膜,常尘现的晶形有各种双晶、球面晶以及不规则晶形,单晶也生跑.但尘现的条件范围很窄。左金刚心膜生长的不同阶段,生长规律有听不同,成核离度与基板表面状态关小密切,高的成核密度有列子全刚心膜的形成,在未成膜阶段金刚石微晶的生长建率大手成膜后膜厚的增长连率。

第3页石膜[3]美国在197。年用离子束沉积技术制后又有人采用等离子体气相沉积技术合成出慢的,因为果用这些技术所得到的那些类金刚石膜仅是碳膜,只是在某些方面,其性能与金刚石很相近。这期间各國都没有取得 1976年宣布他们在密闭系统内采用化学输运反应方法在非金刚石基底如铜、金上生长出八面体及六一八面体金刚石之后,日本、美國等國的许多专家也相健取得很大进特别是日本,进八8。年代来,掀起了研究金刚石簿膜的高潮,以无机材料研究所为中心有一自多了单位正在全力从事这项研究,进展非常惊人。金刚石薄材越来越受到日、苏、美等发达國家的高度重视。