[用热解CVD方法制备的金刚石薄膜的生长特性]皇甫萍邹广田

【用热解CVD方法制备的金刚石薄膜的生长特性】皇甫萍邹广田.pdf题目:(用热解CVD方法制备的 金刚石薄膜的生长特性 专业固体物理 邹广田 金曾孙 指导教师第！页 摘 本文采用热解化学气相沉积方法,甲烧 和氢气作为气体料,在Si、Ge.Cu、M。、石英片、石墨等多种基片上割备出了金刚石薄,孟对其 进行了扫描电镜观察及挂漫光谱则量,此较洋 细地研完了金刚石薄膜的生长持性,总结出金刚石簿 膜的一些生长规律。结果表明,不同的生长来伴将 会生长出不同晶形的金刚心薄膜,常尘现的晶形有各 种双晶、球面晶以及不规则晶形,单晶也生跑.但尘现 的条件范围很窄。左金刚心膜生长的不同阶段,生长规律 有听不同,成核离度与基板表面状态关小密切,高的成核 密度有列子全刚心膜的形成,在未成膜阶段金刚石微晶 的生长建率大手成膜后膜厚的增长连率。第3页 石膜[3]美国在197。年用离子束沉积技术制 后又有人采用等离子体气相沉积技术合成出 慢的,因为果用这些技术所得到的那些类金 刚石膜仅是碳膜,只是在某些方面,其性能 与金刚石很相近。这期间各國都没有取得 1976年宣布他们在密闭系统内采用化学输 运反应方法在非金刚石基底如铜、金上生长 出八面体及六一八面体金刚石之后,日本、美國等國的许多专家也相健取得很大进 特别是日本,进八8。年代来,掀起了研究金刚石簿膜的高潮,以无机 材料研究所为中心有一自多了单位正在 全力从事这项研究,进展非常惊人。金刚 石薄材越来越受到日、苏、美等发达 國家的高度重视。
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