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- 专题
- 铜铝合金及其薄膜的X-射线线形分析
- 类别
- 专题研究
- 页数
- 16页
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- 0.52MB
【铜铝合金及其薄膜的X-射线线形分析】刘艳华.pdf论文题目:铜铝合金及其薄膜的 X-射线形分析 专业:凝聚态物理 导师:王煜明 刘艳华一.摘要 本文概要介绍了x射线线形分析理论 的发展历史.较详细地叙述了×射线线形 所理论.并用线形分析理论研究了铜合金 铝合金及甚薄膜.得到了位错分布参数.位错 密度P.平均位错分布参数me.Ms.平均位错密 度单位体积内的弹性贮能.总乡 了铜合金的πe.m.F.下与应变,应力的关条 得到了单相合金与双相合金在进行拉伸应 变过程中Me.而s.e.下的不同变化规律.对薄 膜样品和块状样品的线形分析结果进往 了比较,并做了简要的解释.其三.当晶体内位错密斑很高时(10cm²]由于位错相互 小区域的位错进行观案,而晶体的物理性质是由其内部 所有缺陷决定的,仅研究局域缺陷并不能真正的解决 问题。x射残能够弥电镜的不足x射残给出 的结果是统计结果x射残不损坏试样,适用 于各种厚薄样品.从而能够反映晶体缺陷的原来 状态.这些.激励人们建立一套分析晶体缺陷的 不射残方法,晶体的结构状态可由其本身结树以 及缺陷的状态来描述。在射残测量中,晶体弦 构反映在射残舒射峰的业罗及强发上.它由晶体 中的愿子平均位置决定.而缺陷状态则反映在射 线衍射峰的峰形上“它由晶族中的原子偏离其平均 位置的状态决定。
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