【工频磁场对细胞缝隙接通讯功能影响的研究】.pdf

目帐一、中文摘要二、英文摘要.三、论文.前言材料与方法.结果.讨论小参考文献,四、综述参考文献致谢

统中央10×10×10cm区城高度均匀的磁场.2、GJIC测定常规培养CHL细胞,待细胞长至融合状态,置于相差荧光星微镜下,以电渗注射法用微电极将57荧光黄溶液(LuoiferYel1ow CHNW457)注入细胞内,观察荧光黄向其接触的周围细胞的传递情况,以注射负电流后5分钟的荧光偶合细胞数(DCC数)作为GJIC 功能的指标.3、细胞受工频磁场和TPA作用及实验分组设立0、1、5、20、40、60ng/m16个TPA浓度组,求出TPA抑制 CHL细胞的网浓度。按磁场辐照剂量的不同,实验分成0、0、0、0.

从以上结果我们发现,工频磁场对GJIC的抑制与其强度有关,0mT的工频磁场不仅能协同TPA抑制GJIC,而且在无TPA存在时,单纯磁场辐射对GJIC也有抑制作用,其抑制程度近似于5ng/m1TPA 的作用.较低强度的(0、0mT)的工频磁场可以增强TPA对GJIC 的抑制,而低强度(0mT)的工频磁场则无此作用。F1eteher曾报道,16Hz正弦波调制的射频场(450MHz1mW/cm²入射能量)能增强 TPA损害GJIC的能力。本研究结果进一步揭示ELF磁场具有抑制 GJIC的作用或增强TPA抑制GJIC的作用。