[硅烷热分解行为]

【硅烷热分解行为】.pdf浙江大学研究生学位论文用纸 硅烷热分解行为 摘要 用硅烷作中间物质来制取半导体高纯硅 是大家所熟知的方法,在硅烧法生产高纯多 晶硅的过程中,硅烧热分做沉私多晶硅要消 耗很大的能量。本丈首先较全面地缘述了前 人所做的工作,对这些工作分成四个方面进 行了叙述。接着,文章刚定了在不出现气相 分做的情况下,反应器中硅烧的最大允许浓 度,即临界浓度。结果表明临界浓度与温度 的关系兮以两个区域,在每尔区域中,临界 浓度5温度的例数必指教关录,转变点在553 ℃左右。浙江大学研究生学位论文用纸 BehavioroftheThermalDecompositionofsilane Abstract Itisawell-knownmethodto producehighpurity semiconductor silicon bydecomposition ofsilane.During producinghighpuritysilicon,agreat dealof energywouldbeconsumedindepositionofpolycrysta-lline silicon.2浙江大学研究生学位论文用纸 目录 硅烷热分解动力学研究 临界硅烷浓度与温度的关系 硅沉积速度与温度的关系 硅化学气相沉积 硅烷光化学 热分解设备 第二章本研究的设想和实验 三电场对硅沉积的影响 第一章文献综述 引言 一没想 二实验 第三章结果与讨论 第四章 结论 参考文献 一 二 三 四 五 一 二 致谢
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