【电位滴定理论与实际的论着】中国工业.pdf
著 电位滴定 理与实际的著 IM柯尔蜀夫 NH富尔曼 兴 区祖篮校 0416039 葆(美国)
第二版序言 自本害“电位滴定”第版山版以来,出見了很多关于应用 这种持殊容量分析法的文章。从所有做过的工作可以知道,电位 滴定常被用子工厂实室的例行分析中.它不再只是理性或学 术性的研究题目,而且已經在实用实驗室中找到了出路。在最近 几年中发表了大量有关电位滴定技术及其在特殊反应中应用的 文。因此本书的新版必须作很大的扩充.有的部分必须重写,有的部分必须扩充。为了节豹篇幅,理部分已經縮减。第一版 的前三章(沉淀及中和反应的原理,氧化及还原反应及其平衡常 数)已經删去。作者这样做的理由是因为在“容量分析”卷I(I.M.柯尔蜀夫原著,經NH.
第三部分实际应用 第七章沉淀反应及絡合物形成反应,用金属或非金属电极137 3.电位計体系 4.电位滴定操作中一般应注意的事项 第六章电位滴定終点的检出.1.一般方法及精密的方法 2.平克荷夫一特勒威尔法及其改良法 3.杜陶艾特体系,极化指示电极 4.极化双金属电极体系 5.差示滴定法.死停終点卡万纳法.速法 、1.銀电极铜电极 4.碘电极 5