《固体与表面一位化学家关于扩展结构中成键作用的见解》已归入本站的科技工程资料栏目。本页提供资料基本信息、部分扫描页预览及数字文件获取信息。本数字文件共157页,文件大小约3.81MB。
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- 专题
- 固体与表面一位化学家关于扩展结构中成键作用的见解
- 类别
- 科技工程
- 页数
- 157页
- 大小
- 3.81MB
【固体与表面一位化学家关於扩展结构中成键作用的见解】R霍夫曼.pdf固体与表面 一位化学家关于扩展结构中成键作用的见解 [美国]R.霍夫曼著 郭洪猷 李静 译 王作新郑冲校 北京Raald Hoffmann致中国读者 亲爱的中国读者:我非常高兴地欢迎你们踏入固体和表面的世界.长期以来,这个领 域,即关于金属、绝缘体以及催化剂的核心,似乎与代表现代化学中心 的分子相脱节。也许这是由于还没有找到很好的操讨扩展体系中成键 问题的方法所造成的.在本书中我所尽力去做的是定性地说明如何运用前线轨道的概念 对扩展材料进行分析。这种概念在分子有机和无机化学中已证明是非 常有用的。我的目的是向你们提供一种相通的思考方法,因而我们能基 于同一观点研究所有物质,从最简单的分子到最复杂的固体。希望你们 能喜欢这本书.R.
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