【半导体硅基材料及其光波导】赵策洲高勇电子工业.pdf

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半导体硅基材料及其光波导 赵策洲高勇编著 Publishing House of Electronics Industry序 受光纤通信与计算机技术发展的需求牵引1,加以硅材料在微 电子技术中的重要地位的影响,近年来集成光学与光电子集成领 域对硅及硅锗材料的研究十分重视,本书从理论与实验两个方面 研究了半导体硅基材料及其光导波.赵策洲副教授和高勇副教授在我们这里做博士学位论文的三 年多时间里,与电子部24所和上海复旦大学合作,做了大量的实 际工作,并查阅了大量的文献资料。他们既要进行SOI和GeSi/Si 材料的制备及特性分析,又要进行半导体光波导的理论分析、设计 和试制。这些工作的顺利进行并取得比较令人满意的结果,说明 作者在半导体工艺和半导体光电子学领域具备较宽广的基础理论 和实践能力。绪 论 光通信和光集成电路的迅速发展,促进了半导体材料和半导 体光波导技术基本理论与应用技术的研究.目前,光集成(OIC)和光电子集成(OEIC)的研究工作主要集 中在酸锂(LiNbO)和Ⅲ-V(或Ⅱ-IV)族化合物半导体上,至于微 电子工业中举足轻重的硅材料,受到的注意却是微乎其微的。早 在70年代,就曾排除在硅上进行单片光集成的可能性[1],当时的 理由是硅不具备电光效应(实际上是指Pockels效应,作者注)和 受激辐射的作用.80年代后期的研究表明,硅的这两个固有缺陷也不是完全不 可克服的。